ホウ素窒化物アシスタントツール

Goodwill Metal Techは、窒化ホウ素アシスタントツールを製造しています。 私たちの製品は一貫して品質と純度が良いです。 我々はまた、顧客からの要求によってドープされたターゲットを製造する。

制品の詳細

ホウ素窒化物アシスタントツール

窒化ホウ素(BN)

六方晶窒化ホウ素は、緩い滑らかで湿度の高い白色粉末の一種です。 その理論密度は2.27 / cm 3であり、Mosh硬度は2である。その機械的強度は低いが、グラファイトよりも高い。 正確な融点はないが、0.1Mpaの窒素ガス中で3000℃で昇華する。 最高使用温度は窒素またはアルゴンガスでは2800℃ですが、酸素では1000℃以下です。

熱膨張係数が小さく、熱伝導率が高いため、耐熱揺れ性は良好です。 1200℃から20℃までのループ時間は100以上であり、BNは破壊されていない。

窒化ホウ素は六方晶系に属し、その結晶構造は黒鉛に似ているため、白黒鉛とも呼ばれます。 B原子とN原子は交互に6角リングネットワークに配列する。 層内の原子は互いに強く強く結合するが、層間の原子は分子結合で結合しているため、弱く破損しやすい。 各層のBNの原子空間は0.142nmであり、弾性率Eは910Gpaである。 しかし、レイヤ間ではそれぞれ0.335nmと30Gpasです。 BNの構造はグラファイトと一致するだけでなく、格子定数も同様である。

窒化ホウ素(BN)スパッタリングターゲット

純度--- 99.5% 密度 --- 1.9〜2.1g / cm 3

形状---ディスク、プレート、ステップ(直径≤360mm、 厚さ ≧1mm)

長方形、シート、ステップ( 長さ ≤410mm、 ≤300mm、 厚さ ≧1mm)

アプリケーション ---窒化ホウ素(BN)スパッタリングターゲットは、半導体、物理蒸着(PVD)ディスプレイ、光学アプリケーションに使用できます。

窒化ホウ素(BN)蒸発材料

純度--- 99.5% 密度 --- 1.9〜2.1g / cm 3

形状 ---不規則なピース

サイズ --- 1-10mm

用途 -窒化ホウ素(BN)は、半導体、物理蒸着(PVD)ディスプレイおよび光学用途に使用することができる。

窒化ホウ素(BN)ボート

純度--- 99.5%

サイズ---

窒化ホウ素(BN)坩堝

純度--- 99.5%

Dia <>

高さ<>

窒化ホウ素製品 - チューブ/リング/絶縁/備品/ブランク/サポート

サイズ---直径<><>

形状---描画

アプリケーション---チューブ/リング/絶縁/備品/サポート/ブランク/その他のコンポーネント

窒化ホウ素(BN)粉末
純度--- 99.5%

形状 ---パウダー

アプリケーション ---原子炉の構造材料、平面とロケットの噴出口、高温の潤滑油、複合立方晶窒化硼素

窒化ホウ素の主要な性質

- 高い熱伝導率

- 低熱膨張

- 優れた耐熱衝撃性

- 高い電気抵抗

- 低誘電率および損失正接

- マイクロ波透過性

- 無毒

- 容易に機械加工された - 非研磨性と潤滑性

- 化学的に不活性

- ほとんどの溶融金属で濡れていない

窒化ホウ素の典型的な応用

- 電子部品 - ヒートシンク、基板、コイルフォーム、プロトタイプ

- シリコン半導体プロセスにおけるホウ素ドーピングウェハ

- 真空溶解るつぼ

- CVDるつぼ

- マイクロ回路パッケージング

- スパッタリングターゲット

- 高精度のシーリング、ろう付け、および金属化設備

- 電子レンジ

- 水平キャスターブレイクリング

- 低摩擦シール

- プラズマアーク絶縁体

- 高温炉設備およびサポート

- 半導体製造装置用各種部品
- 金属/ガラス離型/耐食材料
- 電子部品組立用治具
- 電気炉絶縁部材


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